技術(shù)編號：3350707
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明關(guān)于物理氣相沉積形成鍍膜的技術(shù)，尤其涉及一種真空鍍膜方法及 其使用的真空鍍膜設(shè)備，以及由該方法制得的鍍膜元件和外殼。背景技術(shù)物理氣相沉積(Physical vapour deposition,以下簡稱為PVD )工藝是在真 空環(huán)境中將欲鍍材料，例如金屬元素，采用濺射或蒸發(fā)等方式轉(zhuǎn)移到工件表面， 以在工件表面形成厚度均一的膜層，從而實現(xiàn)使工件表面具有特殊的效果，例 如金屬光澤、光學(xué)效果等。以獲得光學(xué)效果為例，通常利用PVD工藝在工件表面形成光學(xué)鍍膜，如...
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