技術(shù)編號：3340554
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及ー種光學(xué)零件的加工方法，尤其涉及ー種光學(xué)零件中高頻誤差的控制エ藝方法。 背景技術(shù)傳統(tǒng)的光學(xué)加工手段中，加工工具同光學(xué)元件之間存在大面積的空間幾何接觸形態(tài)，有利于面形誤差連續(xù)性的生成，誤差表現(xiàn)為宏觀尺度，即低頻形狀誤差；而微納米量級研拋磨料同光學(xué)元件材料間的機(jī)械化學(xué)綜合作用，主要體現(xiàn)為微觀尺度的誤差演變，即高頻粗糙度誤差。因此，傳統(tǒng)加工手段(如古典拋光、環(huán)拋等)所得到的エ件表面誤差中基本不包含嚴(yán)重的中高頻誤差形態(tài)，能夠保證光學(xué)元件的良好光學(xué)性能。現(xiàn)...
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