技術(shù)編號(hào)：3329810
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種改善MOCVD外延片均勻性的石墨盤，涉及MOCVD外延片生產(chǎn)，本實(shí)用新型包括大石墨盤和小石墨盤，在大石墨盤上設(shè)有通氣小孔和栓，在小石墨盤中心的背部設(shè)置與栓匹配的支撐凹槽，小石墨盤通過支撐凹槽和栓的配合，布置在大石墨盤上方；在小石墨盤上設(shè)置有中心片槽和邊緣片槽；邊緣片槽沿中心片槽的外周均布；在小石磨盤的背部設(shè)置一圓柱形凹槽，支撐凹槽設(shè)置在圓柱形凹槽的中部。本實(shí)用新型通過對(duì)現(xiàn)有小石磨盤進(jìn)行改良，在小石磨盤背部進(jìn)行挖空，挖空形狀為一規(guī)則圓柱形，改善了由于栓導(dǎo)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。