技術編號：3325138
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及等離子噴涂，具體涉及一種氣相反應等離子噴涂制備碳化硼涂層的方法。背景技術目前，低溫等離子體微細加工方法是材料微納加工的關鍵技術，它是微電子、光電子、微機械、微光學等制備技術的基礎，特別是在超大規(guī)模集成電路制造工藝中，有近三分之一的工序是借助于等離子體加工完成的，如等離子體薄膜沉積、等離子體刻蝕及等離子體去膠等。其中等離子體刻蝕為最關鍵的工藝流程之一，是實現(xiàn)超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)中的微細圖形高保真地從光刻模板轉移到硅片上的不可替代的工藝。在刻蝕工藝過...
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