技術編號：3325027
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明公開了一種提高LPCVD沉積BPSG薄膜均勻性的工藝優(yōu)化方法，主要解決現(xiàn)有技術成本高，實驗周期長，難于尋找工藝優(yōu)化參數(shù)組合的問題。其實施步驟是(1)確定實驗因子及其取值范圍；(2)根據(jù)實驗設計原理及實驗因子的取值范圍設計并進行預實驗，之后，采集數(shù)據(jù)并保存；(3)計算每組預實驗對應的均勻性和沉積速率；(4)建立均勻性和沉積速率關于實驗因子的數(shù)學式；(5)根據(jù)數(shù)學式和實際情況，獲得工藝優(yōu)化參數(shù)組合；(6)對工藝優(yōu)化參數(shù)組合進行實驗和分析，確定最終工藝優(yōu)化...
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