技術(shù)編號：3324116
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了一種，屬于真空蒸鍍。其中，該蒸鍍設(shè)備包括蒸鍍腔和設(shè)置于所述蒸鍍腔中的蒸發(fā)源，所述蒸鍍腔中還設(shè)置有用于放置待蒸鍍的基板的蒸鍍基臺，所述蒸發(fā)源的開口朝向所述蒸鍍基臺，所述蒸鍍設(shè)備還包括設(shè)置在所述蒸發(fā)源側(cè)的陰極；設(shè)置在所述蒸鍍基臺側(cè)的陽極；用于向所述蒸鍍腔內(nèi)輸入惰性氣體的惰性氣體提供裝置。本發(fā)明的技術(shù)方案能夠提高蒸鍍過程中待成膜物質(zhì)的利用率。專利說明 [0001]本發(fā)明涉及真空蒸鍍，特別是指一種。 背景技術(shù) [0002]OLED(Organ...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。