技術(shù)編號：3316160
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了一種用于密封化學(xué)沉積裝置中的處理區(qū)的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括化學(xué)隔離腔室，所述化學(xué)隔離腔室具有在所述化學(xué)隔離腔室內(nèi)形成的沉積腔室；具有面板的噴頭模塊，所述噴頭模塊包括多個將反應(yīng)器化學(xué)物質(zhì)輸送到用于對半導(dǎo)體襯底進行處理的空腔中的入口以及將反應(yīng)器化學(xué)物質(zhì)和惰性氣體從所述空腔中去除的排出口，以及被配置成輸送惰性氣體的外部充氣室；基座模塊，所述基座模塊被配置成支撐襯底并且垂直移動以封閉所述空腔而在所述基座模塊與圍繞所述面板的外部部分的臺階之間存在狹窄間隙；以...
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