技術(shù)編號(hào):3315623
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開(kāi)了一種TiWAlN硬質(zhì)薄膜及其制備方法,是以高純Ti靶、W靶、Al靶為靶材,采用雙靶共焦射頻反應(yīng)濺射法沉積在硬質(zhì)合金或陶瓷基體上的,薄膜分子式表示為Ti(W,Al,N),厚度在1-3μm;沉積時(shí),真空度優(yōu)于3.0×10-5Pa,以氬氣起弧,氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體進(jìn)行沉積,濺射氣壓0.3Pa,氬氮流量比10(1-3);Ti靶濺射功率230-280W,W靶濺射功率80-100W,Al靶濺射功率為0-100W。所得硬質(zhì)涂層綜合具備了高硬度,高耐磨性的優(yōu)良特點(diǎn)。...
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