技術(shù)編號(hào):3313917
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種平面靶材的磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)及其使用方法和磁控濺射設(shè)備,其中平面靶材的磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)包括第一級(jí)磁鐵和第二級(jí)磁鐵,第二級(jí)磁鐵設(shè)置在第一級(jí)磁鐵的空隙中,且第二級(jí)磁鐵到靶材表面的垂直距離大于第一級(jí)磁鐵到靶材表面的垂直距離。通過(guò)增加與原來(lái)第一級(jí)磁鐵向平行的第二級(jí)磁鐵,兩級(jí)磁鐵相結(jié)合使得在第一級(jí)磁鐵在靶材表面形成磁場(chǎng)的薄弱區(qū)域上有第二級(jí)磁鐵產(chǎn)生的磁場(chǎng)作為彌補(bǔ),改善靶材表面磁場(chǎng)的均勻性,從而使得靶材表面的等離子密度趨于均勻,保證靶材消耗不會(huì)出現(xiàn)有的部分過(guò)快的問(wèn)題,可以...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。