技術(shù)編號(hào)：3311606
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本文發(fā)明公開(kāi)了一種，其特征在于是該薄膜是采用雙靶共焦射頻反應(yīng)濺射法沉積在硬質(zhì)合金或陶瓷基體上的，薄膜分子式表示為Ti(W，N)，厚度在2-3μm。沉積時(shí)，真空度優(yōu)于3.0×10-5Pa時(shí)，以氬氣起弧，氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體進(jìn)行沉積，濺射氣壓0.3Pa，氬氮流量比10(1-3)。Ti靶濺射功率230-280W，W靶濺射功率為0-120W。所得硬質(zhì)涂層綜合具備了高硬度，高耐磨性的優(yōu)良特點(diǎn)。專利說(shuō)明[0001] 本發(fā)明涉及一種涂層及其制備方法，特別是一種TiWN硬質(zhì)納米...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。