技術編號:3310786
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種雙自由度平面拋光裝置,適用于光學元件、非晶薄膜襯底等工件表面的研磨與拋光加工,它包括底盤和工件移動機構,底盤為方形研磨盤,方形研磨盤的盤面粒度沿著長邊方向從左至又依次遞增;工件移動機構包括真空吸盤、工件轉動軸、氣缸、滑臺、水平云臺、控制滑臺水平方向左右移動的第一滾軸絲杠和第一直線導軌、控制水平云臺前后移動的第二滾軸絲杠和第二直線導軌;第一滾軸絲杠和第一直線導軌的兩端固定在水平云臺上,本發(fā)明結構簡單緊湊,成本較低,自動化程度高,通過方形研磨盤的...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。