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技術(shù)編號：3308711

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本文所述的本發(fā)明的實(shí)施方式一般涉及用于形成高品質(zhì)緩沖層和III-V族層的設(shè)備和方法，所述緩沖層和III-V族層用來形成有用的半導(dǎo)體裝置，如電源裝置、發(fā)光二極管(light emitting diode；LED)、激光二極管(laser diode；LD)或其它有用裝置。本發(fā)明的實(shí)施方式還可包括用于形成高品質(zhì)緩沖層、III-V族層和電極層的設(shè)備和方法，所述緩沖層、III-V族層和電極層用來形成有用的半導(dǎo)體裝置。在一些實(shí)施方式中，設(shè)備和方法包括使用一或多個(gè)群集...
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