技術(shù)編號：3306434
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本新型涉及真空鍍膜設(shè)備，特指一種應(yīng)用在鍍膜設(shè)備中的離子源清洗裝置。它包括有鍍膜設(shè)備中用來清洗的真空室，該真空室為凹型容腔，真空室上部的開口對應(yīng)待清洗的鍍膜基板；真空室的底部安裝有用來抽真空的真空機構(gòu)，在真空室內(nèi)固定設(shè)有絕緣支撐件，在絕緣支撐件上設(shè)有用來提供清潔氣體的布?xì)饪?，在絕緣支撐件上還分別間隔設(shè)有兩個電極，兩個電極分別通過各自的電源線與外部的高壓中頻電源電連接；工作時，在接通高壓中頻電源的兩個電極作用下使清潔氣體形成等離子體，所述鍍膜基板位于該等離子體...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。