技術(shù)編號(hào)：3298179
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種遠(yuǎn)程磁鏡約束線形等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，包括有沉積腔，沉積腔分為等離子體發(fā)生區(qū)、材料表面處理區(qū)，沉積腔的頂端和兩側(cè)分別設(shè)有一塊永磁鐵，沉積腔的等離子體發(fā)生區(qū)設(shè)有與氣源連接的上、下進(jìn)氣管以及與同軸微波源相連接的同軸圓波導(dǎo)，沉積腔的材料表面處理區(qū)中設(shè)有基片臺(tái)，沉積腔的底部設(shè)有真空機(jī)組；在永磁鐵組件產(chǎn)生的線形磁鏡場(chǎng)約束條件下，使用同軸圓波導(dǎo)在沉積腔中激發(fā)工作氣體產(chǎn)生線形微波等離子體，所通入工作氣體在線形微波等離子體作用下在基片臺(tái)上的基片表面...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。