技術(shù)編號(hào):3294667
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。公開(kāi)了一種薄膜沉積源、一種沉積裝置和一種使用該沉積裝置的沉積方法。所述沉積裝置包括沉積源,該沉積源包括將沉積物質(zhì)噴射在基板的表面上并被布置為沿第一方向的多個(gè)噴嘴;和至少一個(gè)快門(mén),該至少一個(gè)快門(mén)通過(guò)打開(kāi)或遮蔽所述沉積物質(zhì)的噴射通道的至少一部分來(lái)控制所述沉積物質(zhì)的噴射區(qū)域。專(zhuān)利說(shuō)明[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用[0002]本申請(qǐng)要求于2012年12月3日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局遞交的第10-2012-0139082號(hào)韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán),其公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)引用全部合并于此...
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