技術(shù)編號(hào)：3294659
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。，其制備方法依次包括1、沉積技術(shù)及靶材成分的確定；2、工件的選擇與前處理；3、預(yù)轟擊工藝的確定；4、沉積工藝的確定；5、真空加熱處理；6、工件旋轉(zhuǎn)。本發(fā)明降低了鍍膜成本，保證了膜層高附著力、高硬度和高熱震性的同時(shí)實(shí)現(xiàn)，減小了膜層內(nèi)應(yīng)力，并具有良好的穩(wěn)定性和可重復(fù)性。專利說(shuō)明[0001]本發(fā)明涉及一種氮梯度硬質(zhì)反應(yīng)膜的制備方法，特別是采用組合靶制備多弧離子鍍氮梯度硬質(zhì)反應(yīng)膜的方法，比如氮化鈦鋁鈮氮梯度硬質(zhì)反應(yīng)膜(以下使用“TiAlNbN”來(lái)代替“氮化鈦鋁鈮”...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。