技術(shù)編號(hào)：3291736
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及氣體吸排單元及具備該氣體吸排單元的原子層沉積裝置。氣體吸排單元可以包括內(nèi)部形成有供氣流道的供氣管；在內(nèi)部形成與所述供氣流道連通的排氣流道的排氣管；圍繞所述排氣管的外周面的至少一部分，從而在內(nèi)部形成吸氣流道的吸氣管。因此，當(dāng)配置在與基板臨近的位置時(shí)，能夠同時(shí)完成對(duì)氣體的供給和吸入。由此，可在常壓下形成沉積，因此不需要用于確保真空的其他裝置以及時(shí)間。而且，可進(jìn)行連續(xù)性工序，可將前后處理進(jìn)行在一條線上，并且通過設(shè)置多個(gè)源氣體吸排單元，可形成多組分化合物...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。