技術編號：3289220
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明提供，其包括反應腔室、濺射電源和驅動源，在反應腔室內(nèi)的頂部設置有靶材，濺射電源與靶材電連接，用以在磁控濺射過程中向靶材輸出濺射功率；在反應腔室內(nèi)，且位于靶材的下方設置有基座，用以承載被加工工件；驅動源用于驅動基座上升或下降；而且，磁控濺射設備還包括控制單元，控制單元用于在磁控濺射的過程中控制驅動源驅動基座上升，以使靶材與基座的間距始終保持預定值不變。本發(fā)明提供的磁控濺射設備，其通過借助控制單元在磁控濺射的過程中控制驅動源驅動基座上升，以使靶材與基座的...
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