技術(shù)編號：3288803
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種用于PECVD薄膜沉積的氣體反應(yīng)裝置，包括進(jìn)氣管、氣體混合器、兩個(gè)以上的出氣管及流量控制器；所述氣體混合器的一端與所述進(jìn)氣管連接，所述氣體混合器的另一端與所述出氣管連接，所述氣體混合器與所述進(jìn)氣管、所述出氣管之間氣體流通；所述流量控制器用于控制所述出氣管內(nèi)的氣體流量；所述出氣管還用于與噴淋頭連接，所述出氣管用于將所述氣體混合器內(nèi)混合后的反應(yīng)氣體通過所述噴淋頭噴灑到晶圓表面。從而能夠?qū)ECVD薄膜各個(gè)區(qū)域所需的反應(yīng)氣體量進(jìn)行控制，進(jìn)而能夠調(diào)節(jié)PECVD...
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