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通過原子層沉積來涂覆襯底卷式基材的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:3288636

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本發(fā)明涉及一種在原子層沉積(ALD)反應(yīng)器(100)的反應(yīng)空間中接收并且處理移動的襯底卷式基材(110)的方法及設(shè)備。本發(fā)明還涉及包括這類反應(yīng)器的生產(chǎn)線。本發(fā)明包括將移動的襯底卷式基材接收到原子層沉積反應(yīng)器的反應(yīng)空間(150)中,在反應(yīng)空間中為襯底卷式基材設(shè)置具有重復(fù)圖案(140)的軌跡,并且使反應(yīng)空間暴露于前體脈沖,以通過順序的自飽和表面反應(yīng)將材料沉積到襯底卷式基材上。通過在反應(yīng)空間中使襯底卷式基材的傳輸方向多次轉(zhuǎn)向來實(shí)現(xiàn)該圖案。本發(fā)明的一種效果是將AL...
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