技術(shù)編號(hào):3288278
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了一種用于處理在室中襯底的方法,該室具有至少一個(gè)等離子體發(fā)生源、用于提供反應(yīng)性氣體進(jìn)入該室的內(nèi)部區(qū)域的反應(yīng)性氣體源和用于提供非反應(yīng)性氣體進(jìn)入所述內(nèi)部區(qū)域的非反應(yīng)性氣體源。該方法包括執(zhí)行混合模式脈沖(MMP)準(zhǔn)備階段,包括使反應(yīng)性氣體流入所述內(nèi)部區(qū)域以及形成第一等離子體以處理被放置在工件夾具上的襯底。該方法還包括執(zhí)行MMP反應(yīng)階段,包括使至少非反應(yīng)性氣體流入所述內(nèi)部區(qū)域以及形成第二等離子體以處理所述襯底,第二等離子體是由在所述MMP反應(yīng)階段期間的反...
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