技術(shù)編號：3287548
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的真空成膜裝置是在基材形成皮膜的真空成膜裝置，具備真空腔室；對所述真空腔室內(nèi)進行真空排氣的真空排氣單元；以自轉(zhuǎn)的狀態(tài)保持作為成膜對象的所述基材的多個自轉(zhuǎn)保持部；以及使所述多個自轉(zhuǎn)保持部在與各自轉(zhuǎn)保持部的旋轉(zhuǎn)軸平行的公轉(zhuǎn)軸周圍進行公轉(zhuǎn)的公轉(zhuǎn)機構(gòu)，所述多個自轉(zhuǎn)保持部被分為多個組，以按每個組成為不同的電位的方式對各自轉(zhuǎn)保持部供給電力。例如，各組按時間交替地重復(fù)成為負(fù)的電極而作為在輝光放電等離子體生成中起到主體性的作用的作用極工作的狀態(tài)和作為其異性極工作的狀...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。