技術(shù)編號：3287496
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種磁控管濺鍍方法，利用該方法可以將材料從靶表面濺射，使得所濺射的材料以離子形式高百分比地存在。根據(jù)本發(fā)明，這借助于簡單的發(fā)生器來實(shí)現(xiàn)，該發(fā)生器的功率以分布在時間間隔中的方式饋入到多個磁控管濺鍍源中，也就是說，在一時間間隔給一個濺鍍源供應(yīng)最大功率，并且在接下來的時間間隔中給下一個濺鍍源供應(yīng)最大功率。通過這種方式，實(shí)現(xiàn)了大于0.2A/cm2的放電電流密度。在關(guān)斷時間期間，濺鍍靶具有冷卻的可能性，使得溫度極限不被超過。專利說明高功率濺射源[0001]...
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