技術(shù)編號：3286564
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開一種，包括將基片放入ALD反應(yīng)腔室中，對基片及腔室管道進(jìn)行加熱，然后進(jìn)行多組分的復(fù)合沉積；所述復(fù)合沉積包括在第一次鋅源沉積后，分別引入一次含摻雜元素Zr的摻雜源的摻雜沉積、第二次鋅源沉積、兩次氮摻雜源沉積及兩次氧源沉積，形成N-Zr-N的共摻；所述氮摻雜源沉積和所述氧源的沉積順序是先氮摻雜源沉積，后氧源沉積；所述含摻雜元素Zr的摻雜源沉積與所述第二次鋅源沉積順序是先含摻雜元素Zr的摻雜源沉積，后第二次鋅源沉積。該方法可以對氧化鋅薄膜進(jìn)行原位的施主...
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