技術編號：3284621
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。一種薄膜形成裝置在基板上形成鈍化膜，且包括腔室，被導入包含鈍化膜的原料氣體的反應氣體；基板底板，配置于腔室內，且載置基板；電極，配置于腔室內，在基板底板上的與基板相對向的面形成著槽；以及交流電源，一邊使大于或等于40kHz且小于或等于450kHz的頻率的交流電力的供給以固定的周期停止，一邊將該交流電力供給至基板底板與電極之間，且在基板的上表面激發(fā)包含原料氣體的等離子體。專利說明薄膜形成裝置[0001]本發(fā)明涉及一種激發(fā)等離子體(plasma)來進行成膜處理...
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