技術(shù)編號(hào)：3283082
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及能用于在例如汽車部件、機(jī)械部件、工具、模具等物件上形成使耐磨損性、滑動(dòng)性、抗蝕性等中的至少一項(xiàng)得到改善用的薄膜的真空電弧蒸鍍裝置。背景技術(shù) 真空電弧蒸鍍裝置在減壓氛圍下，使陽極與陰極之間產(chǎn)生真空電弧放電，利用該放電產(chǎn)生包含使陰極材料蒸發(fā)并離子化的陰極材料的等離子體，使該離子化陰極材料飛往被成膜件，在該件上形成薄膜。一般將陽極與陰極之間產(chǎn)生真空電弧放電并利用該電弧放電使陰極材料離子化的部分稱為蒸發(fā)源或真空電弧蒸發(fā)源。真空電弧蒸鍍裝置與等離子體CVD...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。