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用于高流速真空起泡器容器的防濺器的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:3279518

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用于高流速真空起泡器容器的防濺器相關(guān)申請的交叉引用本專利申請是2009年3月19日提交的美國專利申請序列號12/407,279的部分繼續(xù)申請。背景技術(shù)電子制造業(yè)使用將液態(tài)化學(xué)品轉(zhuǎn)化成化學(xué)品蒸汽以便輸送給電子器件制造反應(yīng)器(即,處理裝置)而用于實施化學(xué)氣相沉積(CVD)的化學(xué)前體貯存器(container)。CVD是一種用于在電子制造的構(gòu)造(例如,集成電路或計算機芯片)中形成層、薄膜以及其它沉積物的受歡迎的技術(shù)。因為大量化學(xué)前體的運輸和存儲效率問題,所以優(yōu)選...
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