技術編號：3277179
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種真空陰極電弧蒸發(fā)源的氣動式引弧裝置。背景技術真空陰極電弧沉積是當前離子鍍工模具用和裝飾用硬質保護薄膜的主流技術之一。具體的鍍膜過程如下真空陰極電弧蒸發(fā)源安裝在真空鍍膜室側壁上，蒸發(fā)源前端穿入真空鍍室內，其上的鍍料--靶塊面朝著真空鍍室內的待鍍工件，由弓I弧裝置在靶塊表面弓I燃成簇的真空電弧微弧斑，弧斑區(qū)的高溫和場致效應作用讓靶材蒸發(fā)生成金屬蒸氣，并電離成等離子體向空間發(fā)射，在工件表面沉積成薄膜。引弧裝置是陰極電弧蒸發(fā)源不可或缺的組成部分。...
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