技術(shù)編號(hào)：3273540
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及冷卻系統(tǒng)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于MOCVD設(shè)備的反應(yīng)室水冷控制系統(tǒng)。背景技術(shù)金屬有機(jī)物化學(xué)氣相淀積(Metal Organic Vapor Deposition,簡稱M0CVD)設(shè)備是目前化合物半導(dǎo)體材料制備最關(guān)鍵的工藝設(shè)備。當(dāng)今，一些先進(jìn)的微電子、光電子器件及微波、毫米波器件，大都依靠這種工藝裝備生產(chǎn)出先進(jìn)的薄層、超薄層半導(dǎo)體材料。MOCVD設(shè)備是一臺(tái)大型、復(fù)雜的裝備，其中反應(yīng)室系統(tǒng)是該設(shè)備的“心臟”。反應(yīng)室水冷系統(tǒng)是服務(wù)于以反應(yīng)室為中心的一...
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