技術(shù)編號：3271254
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及氣體設(shè)備領(lǐng)域，具體而言，涉及一種特氣管路及具有其的等離子體增強化學(xué)氣相帶電沉積設(shè)備。背景技術(shù)在等離子體增強化學(xué)氣相帶電沉積設(shè)備生產(chǎn)過程中，需要特氣和微波，在高頻低壓的工藝環(huán)境下，在350度的高溫下將從管路通入的特氣(硅烷和氨氣)經(jīng)過微波打成等離子狀態(tài)，然后附著到硅片表面，完成工藝。特氣在經(jīng)過特氣管路時，形成的氮化硅粉末會在管內(nèi)慢慢沉積到管壁和特氣孔的側(cè)壁上，經(jīng)過長時間的累積，使特氣管路和特氣孔的氣體流路變窄，影響氣流流量的穩(wěn)定性。圖I示出了等...
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