技術(shù)編號(hào):3270661
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種晶硅太陽(yáng)能電池鍍膜用硅片承載裝置。技術(shù)背景 目前,在晶體硅太陽(yáng)能電池片的制備工藝中,PECVD(等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)制備減反射膜已成為必不可少的工序。這層減反射膜不僅能減少硅片表面的光反射,增加光吸收,而且又有良好的表面鈍化和體鈍化的重要作用。因此,良好的減反射膜不僅是電池片各電性能參數(shù)的重要保證,也是電池片檢驗(yàn)、等級(jí)劃分的重要標(biāo)準(zhǔn)。現(xiàn)有的PECVD鍍膜設(shè)備,都需要特定的硅片承載裝置,如德國(guó)Roth&Rau PECVD設(shè)備所用...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。