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技術(shù)編號：3268780

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本實(shí)用新型涉及化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,簡稱CVD)裝置,更具體地說，涉及一種用于化學(xué)氣相沉積裝置中的氣體噴淋結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)化學(xué)氣相沉積是制備半導(dǎo)體薄膜器件的一種關(guān)鍵工藝，包括各種微電子器件、薄膜光伏電池、發(fā)光二極管，都離不開金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積(Metal-organicChemical Vapor D印osition，簡稱M0CVD)工藝。MOCVD的基本生長過程是，將反應(yīng)氣體從氣源引入反應(yīng)腔室，利用以加熱...
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