技術編號：3265591
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種冷卻擋板裝置，特別是一種在真空鍍膜設備中使用的冷卻擋板裝置。背景技術在金剛石薄膜及其他超硬膜(立方氮化硼、氮化碳等)的沉積方法中，熱絲化學氣相沉積法(HFCVD)、等離子體噴射化學氣相沉積法(P jet CVD)是化學氣相沉積方法(CVD)中幾種重要的沉積方法。上述兩種沉積超硬膜的方法中，由于一些金屬雜質(zhì)和含石墨碳鍵的基團沉積到基底表面，生成一層非金剛石成分的薄膜，會減低金剛石薄膜或其他超硬膜的成核密度，基底表面會生長一層非超硬膜或含其他...
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