技術(shù)編號：3262161
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及在基材的表面采用濺射、CVD等進行真空成膜的。背景技術(shù)以往，以提高切削工具的耐磨損性或提高機械部件的滑動面的滑動特性為目的，利用物理氣相沉積(PVDPhysical Vapor Deposition)法對基材(成膜對象物)進行硬質(zhì)皮膜(TiN、TiAlN、CrN等)的成膜。作為在這樣的硬質(zhì)皮膜的成膜中使用的裝置，有電弧離子鍍(arc ion plating)裝置或派射(sputtering)裝置等成膜裝置?？墒牵谶@樣的成膜裝置中，進行濺射的裝置...
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