技術(shù)編號：3260094
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種粉塵吸附裝置，特別是涉及一種用于臥式等離子體增強化學氣相沉積裝置的真空系統(tǒng)中的粉塵吸附器。背景技術(shù)PECVD裝置(又稱等離子體增強化學氣相沉積裝置)制備Al2O3過程中，在高真空石英腔體內(nèi)利用高頻電場激發(fā)，分解通入工藝氣體N2O和TMA源，通過粒子在樣品表面的沉積形成Al2O3薄膜，研究發(fā)現(xiàn)，晶硅電池氧化鋁(Al2O3)膜的鈍化效果、質(zhì)量密度和折射率都很好，可以極大地提高電池片轉(zhuǎn)換效率，是太陽能電池生產(chǎn)線上最關(guān)鍵的設備之一。在臥式PECVD裝...
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