技術(shù)編號(hào):3257931
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及到一種真空鍍膜裝置,尤其涉及到一種能改善加入氣體精度和均勻性及減少熱幅射的影響、鍍膜材料加熱均勻不會(huì)產(chǎn)生深坑現(xiàn)象的真空鍍膜裝置、控制系統(tǒng)及控制方法。背景技術(shù)目前在光學(xué)元件及半導(dǎo)體集成電路中廣泛使用真空鍍膜處理技術(shù)。在真空腔內(nèi),將鍍膜材料放置在坩堝內(nèi)形成蒸發(fā)源,鍍膜基片放置在機(jī)架上;采用熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、濺射、分子束延展等方法將蒸發(fā)源以金屬離子、電子和中性粒子的形式生成鍍膜蒸汽;鍍膜蒸汽沉積在基片上形成薄膜。如果同時(shí)在真空腔體中通入適量氮?dú)?、氧?..
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。