技術(shù)編號:3256787
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及ー種。背景技術(shù)通常,在化學鍍中,在使催化劑附著在被鍍物的表面后,使該被鍍物浸潰在化學鍍液中,不流過電流而通過還原反應(yīng)使被鍍物的表面析出金屬。通過化學鍍,能夠在絕緣物的表面也形成金屬覆膜。因此,在エ業(yè)界廣泛利用了化學鍍。近年來,在各種電子設(shè)備中使用了高密度化和高精細化的布線電路基板。在制造布線電路基板時,在由銅構(gòu)成的布線圖案的表面,通過化學鍍形成鎳或鉻等的金屬薄膜。在該情況下,在難以通電的微小的導體部分和絕緣體部分上也能夠形成金屬薄膜。 與電鍍相比...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。