技術(shù)編號(hào)：3255389
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種通過(guò)電弧放電使蒸發(fā)源離子化并在エ件上成膜的電弧離子鍍裝置。背景技術(shù)電弧離子鍍裝置為如下裝置，即在真空中將金屬材料或陶瓷材料的蒸發(fā)源作為陰極(負(fù)極)產(chǎn)生電弧放電，由此使蒸發(fā)源蒸發(fā)的同時(shí)作為離子放出，另ー方面，對(duì)エ件(被涂物)外加負(fù)偏壓，并對(duì)該エ件表面加速供給離子來(lái)進(jìn)行成膜。作為蒸發(fā)源廣泛使用鈦或鉻，并利用于為了提高耐磨性例如在由高速鋼或硬質(zhì)合金、金屬陶瓷等構(gòu)成的切削工具的表面形成Ti、TiAl、CrAl等硬質(zhì)皮膜的技術(shù)中。這種電弧離子鍍裝置中，...
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