技術(shù)編號(hào)：3255300
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及真空電鍍領(lǐng)域，特別涉及一種低溫真空鍍膜裝置。 背景技術(shù)常見的真空電鍍，被鍍的產(chǎn)品一般都是金屬制品，因?yàn)樵谡婵针婂儣l件下，溫度都比較高，傳統(tǒng)的濺射鍍膜也必須在高溫條件下形成較密的膜層，塑料制品等不能耐受高溫，否則將引起產(chǎn)品變形。發(fā)明內(nèi)容為解決前述存在的問題，本發(fā)明提供一種低溫真空鍍膜裝置，該裝置一真空鍍膜腔體與過濾陰極離子真空鍍膜源連接，真空鍍膜腔體設(shè)有分子真空泵，并在真空鍍膜腔體設(shè)有離子束清洗源，清洗被鍍工件，真空鍍膜腔體溫度低于SOtlC,被鍍...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。