技術(shù)編號：3254484
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及濺射等物理蒸鍍技術(shù)中使用的鑰靶的制造方法。背景技術(shù)目前,在液晶顯示器(Liquid Crystal Display)等平面顯示裝置的薄膜電極以及薄膜配線等中，使用電阻小的鑰(以下記為Mo)等高熔點金屬薄膜，作為用于形成該金屬薄膜的材料，濺射用靶材被廣泛地利用。在制造靶材等Mo塊狀體時，由于高熔點金屬難以通過熔解鑄造法進行制造，因此一般使用將Mo原料粉末燒結(jié)而制造塊狀體的方法。作為其中一種方法，使用將還原處理氧化鑰而得到的Mo原料粉末壓縮成形，將該...
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