技術(shù)編號(hào)：3252009
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于無機(jī)層的沉積源和用于控制該沉積源的加熱源的方法，更具體地說，本發(fā)明涉及一種用于無機(jī)層的沉積源，其能夠提高沉積效率，防止噴嘴的凝結(jié)，和/或通過使為達(dá)到沉積速率的穩(wěn)定所需的時(shí)間最少來精確地控制溫度，和一種用于控制這種沉積源的加熱源的方法。背景技術(shù) 總體而言，沉積源能夠用于各種電子部件的薄膜沉積，尤其是用于形成諸如半導(dǎo)體、LCD、有機(jī)電致發(fā)光顯示器之類電子設(shè)備和/或顯示設(shè)備的薄膜。有機(jī)電致發(fā)光顯示器是一種電致發(fā)光顯示器，其將電子和空穴從電子注入...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。