技術(shù)編號：3251540
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及基板處理方法、基板處理程序及存儲介質(zhì)，特別涉及向?qū)Ρ砻鎸嵤┨幚淼幕宓谋趁婀┙o氦氣的基板處理方法。背景技術(shù) 在現(xiàn)有技術(shù)中，在等離子體處理裝置的處理室(下面稱作腔室)內(nèi)，將基板裝載在具有冷卻機構(gòu)的裝載臺上，對該基板實施等離子體處理。在對基板實施等離子體處理的過程中，向裝載臺與基板的背面之間供給傳熱氣體，例如氦氣(He)，通過該氦氣在裝載臺傳遞基板的熱量，來控制基板的溫度(例如，參照專利文獻1)。氦氣從設(shè)置在裝載臺下方的傳熱氣體供給裝置(背壓力單元)...
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