技術(shù)編號：3250108
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及用化學蒸鍍法蒸鍍薄膜時能夠調(diào)節(jié)固體原料的流量 的原料氣體供給裝置。尤其涉及在用化學蒸鍍法蒸鍍薄膜時，能夠通 過準確、實時地控制流入蒸鍍室內(nèi)的原料氣體的壓力來有效地調(diào)節(jié)蒸 鍍室內(nèi)的蒸鍍壓力的原料氣體供給裝置。背景技術(shù)用化學蒸鍍法(Chemical Vapor Deposition; CVD)蒸鍍薄膜的技 術(shù)在半導體元件的絕緣層和有源層、液晶顯示元件的透明電極、電子 發(fā)光顯示元件的發(fā)光層和保護層等各種應用中非常重要。 一般來說， 用CVD蒸鍍成的薄膜...
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