技術(shù)編號：3250097
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及薄膜沉積，尤其涉及由混合物組成并具有預(yù)定折射率的層的濺射沉積。發(fā)明背景濺射沉積是一種廣泛應(yīng)用于沉積薄膜的技術(shù)。在典型濺射沉積系統(tǒng)中，靶陰極由電 源提供電壓，下文指陰極電壓。施加的陰極電壓在濺射沉積系統(tǒng)的真空室中將惰性氣體 部分電離，以產(chǎn)生等離子體。等離子體包括陽離子，該陽離子被吸引向帶負(fù)電的靶陰極 并朝向靶陰極被加速。當(dāng)陽離子和靶陰極相撞，靶材料從靶陰極濺射出。濺射的靶材料 在基片上沉積為層。為了擴(kuò)大能夠沉積為層的材料的范圍，可以將例如氧氣和氮?dú)?..
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