技術(shù)編號(hào)：3249904
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種薄膜沉積裝置，尤其涉及用于對(duì)薄膜沉積裝置提 供形成薄膜的金屬材料原料氣體供給裝置，以及在薄膜沉積后處理殘 留氣體的殘留氣體處理裝置。背景技術(shù)薄膜是指無法用機(jī)械加工來實(shí)現(xiàn)的、厚度為數(shù)微米以下的薄膜。 這里包括水面的油膜、皂滴凝聚的膜、金屬表面的銹、鐵皮、生鐵的 亞鉛膜、錫膜等，除此之外，還有一些薄膜(比如金屬薄膜、半導(dǎo)體 薄膜、絕緣膜、化合物半導(dǎo)體薄膜、磁性薄膜、電介質(zhì)薄膜、集成電 路薄膜、超導(dǎo)薄膜等)是通過以規(guī)定的真空沉積法(也可稱作蒸氣干 ...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。