技術編號：3249432
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及可以穩(wěn)定且以高的拋光效率進行透鏡、反射鏡等光學材料、及硅晶片、硬盤用玻璃襯底、鋁襯底及通常的金屬拋光加工等要求高度表面平坦性的材料的平坦化加工的拋光墊。本發(fā)明的拋光墊特別適用于對硅晶片及其上形成了氧化物層、金屬層等的器件在進一步層壓和形成這些氧化物層及金屬層之前進行平坦化的工序。背景技術作為要求高度表面平坦性的代表材料，可以列舉出制造半導體集成電路(IC、 LSI)的被稱為硅晶片的單晶硅的圓盤。硅晶片在IC、 LSI等的制造工序中，為了形成電路形...
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