技術(shù)編號：3249078
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種特別打算用于混合模式的涂覆過程的涂覆設(shè)備，其中，物理氣相沉積(PVD)過程和化學(xué)氣相沉積(CVD)過程交替或 同時實施。在該設(shè)備中，可轉(zhuǎn)動的磁控管用作濺射材料源。該涂覆設(shè) 備進一步配備有管形開閉器，該管形開閉器能夠轉(zhuǎn)動地移動以便覆蓋 或露出磁控管的濺射區(qū)域。背景技術(shù)在光學(xué)的、電學(xué)的、化學(xué)的、磁性的或機械的功能覆層的沉積領(lǐng) 域中，物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)經(jīng)常被使用。物 理氣相沉積涉及這樣的過程，其中，通過用涂覆原子對基體彈...
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