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具有動(dòng)態(tài)可調(diào)整等離子源功率施加器的等離子反應(yīng)器的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3248891

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具有動(dòng)態(tài)可調(diào)整等離子源功率施加器的等離子反應(yīng)器背景技術(shù)在包含等離子處理以于大型工件(workpiece)上形成納米級(jí)特征結(jié)構(gòu) (feature)尺寸的半導(dǎo)體元件制造中,主要的問(wèn)題為等離子的均一性。舉 例來(lái)說(shuō),工件可以為300 mm的半導(dǎo)體晶片或是矩形的石英光罩(例如 152.4 mm乘以152.4 mm ),因此,相對(duì)于(舉例)在300 mm直徑晶片 的整體面積上的納米尺寸特征結(jié)構(gòu)維持均一的蝕刻速率是相當(dāng)困難,而此 困難性至少部分源自制程的復(fù)雜度。等離子輔...
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