技術(shù)編號：3247285
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及離子輔助沉積鍍膜技術(shù)，特別是一種用于離子源的離子 束流密度和能量的同步測量裝置，也可用于離子注入、改性以及濺射中離子 源所發(fā)射離子能量和束流密度的測量。 豕抆不離子束技術(shù)已被證實可有效改善薄膜質(zhì)量并廣泛應(yīng)用于薄膜沉積技術(shù) 中，其關(guān)鍵設(shè)備離子源的性能也成為影響沉積質(zhì)量的重要因素。離子源發(fā)射出一定離子能量和束流密度的離子束，使其在真空室中運行 一定距離后作用到薄膜分子或原子上，發(fā)生動量和能量交換作用，從而改變 了生長中的薄膜性質(zhì)，這就是離子輔助沉...
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