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復(fù)合薄膜制備系統(tǒng)的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3246261

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本發(fā)明涉及復(fù)合薄膜制備系統(tǒng)領(lǐng)域,特別涉及一種激光分子束外延-磁控濺射復(fù)合成 膜系統(tǒng)。背景技術(shù)薄膜技術(shù)在現(xiàn)今的工業(yè)生產(chǎn)和科學(xué)研究中占有重要的地位。在眾多的薄膜制備方法中, 磁控濺射和脈沖激光沉積在固體薄膜的生長(zhǎng)中是兩種相互不可替代的重要方法 磁控濺射的方法 一般是采用輝光放電的方法使惰性氣體(如氬氣)放電離化而產(chǎn)生等離 子體,等離子體中的陽(yáng)離子Ur+)在電場(chǎng)的作用下被加速而轟擊處于陰極的固態(tài)靶材,當(dāng) 離子轟擊靶材的能量大于靶材表面粒子的結(jié)合能時(shí),這些粒子就要...
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